サンノゼ

次世代EUV露光装置が量産へ　ASMLが量産開始の条件整うと表明

AI向け半導体需要の急拡大で微細化を決める露光装置が研究段階から工場導入へ移行。ASMLはサンノゼで、半導体メーカーが量産に使える高開口数（High-NA）EUV露光装置の準備・検証が進み、量産対応の条件が整いつつあると示した。業界への影響は大きく、生産体制の転換が進む見込みだ。