ナノインプリントリソグラフィー

大日本印刷、NIL向け10nmテンプレート開発　EUV代替を視野

大日本印刷（DNP）がナノインプリントリソグラフィー（NIL）向けに回路線幅10nmテンプレートを開発。1.4nm世代相当のロジック対応で、EUV露光に比べ消費電力を約1/10に抑え、先端半導体のコスト・電力課題に代替策を提示。製造コスト削減や環境負荷低減にもつながる可能性を示す。