次世代EUV露光装置が量産へ ASMLが量産開始の条件整うと表明
AI向け半導体需要の急拡大で微細化を決める露光装置が研究段階から工場導入へ移行。ASMLはサンノゼで、半導体メーカーが量産に使える高開口数（High-NA）EUV露光装置の準備・検証が進み、量産対応の条件が整いつつあると示した。業界への影響は大きく、生産体制の転換が進む見込みだ。
半導体量産
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EUV露光の新技術をASMLが発表 光源強化で生産性を改善
ロイター報道によると、オランダのASMLは極端紫外線（EUV）露光で処理速度のボトルネックになりやすい光源の出力を高める新技術を開発し、EUV光源の安定性や稼働率改善を通じて先端半導体の量産ラインの生産性を今後大きく押し上げる見通しを示した。コスト低減や歩留まり改善も期待される。
TSMC、熊本で3ナノ半導体を量産 国内初の最先端拠点が誕生へ
半導体受託製造の世界最大手TSMCが、熊本県で回路線幅3ナノメートルの最先端半導体を国内で初めて量産する計画を政府に提示。投資は約170億ドル規模で、供給網を国内に抱えたい政府は経済安全保障の柱として支援を検討している。計画は2月4日の取材で判明した。
最先端半導体の量産へ、ラピダスが「司令塔」導入 IBMと連携
ラピダスの千歳新工場「IIM-1」で製造実行システム（MES）「IBM IndustryView for Semiconductor Standard」が稼働。装置立ち上げと同時にデータ管理基盤を整備し、量産準備の速度と品質再現性が問われる。
メガバンク融資意向表明 ラピダス支援で政府後押し
赤沢亮正経産相は、次世代半導体の量産を目指すラピダスに対し国内メガバンク3行が融資の意向書を提出したと明らかにした。政府は金融面を含む支援を続け、官民で巨額投資をどう分担して日本の半導体産業の再建につなげるかが焦点となり、資金調達の枠組みや負担配分が今後の焦点となる。
