次世代EUV露光装置が量産へ ASMLが量産開始の条件整うと表明
AI向け半導体需要の急拡大で微細化を決める露光装置が研究段階から工場導入へ移行。ASMLはサンノゼで、半導体メーカーが量産に使える高開口数（High-NA）EUV露光装置の準備・検証が進み、量産対応の条件が整いつつあると示した。業界への影響は大きく、生産体制の転換が進む見込みだ。
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EUV露光の新技術をASMLが発表 光源強化で生産性を改善
ロイター報道によると、オランダのASMLは極端紫外線（EUV）露光で処理速度のボトルネックになりやすい光源の出力を高める新技術を開発し、EUV光源の安定性や稼働率改善を通じて先端半導体の量産ラインの生産性を今後大きく押し上げる見通しを示した。コスト低減や歩留まり改善も期待される。
最先端買えず「延命」へ 中国のAI半導体生産、ASML旧装置改修で対応
時事通信が英FT報道を引用。対中規制強化で最新装置や部品が入手困難になり、中国の半導体企業はASMLの旧世代露光装置を独自改良してAI半導体の国内生産やサプライチェーンの延命を図っている。工場は「買う」より延命を優先し、国内投資や技術改良で自給率向上を目指す。
オランダ報道「中国軍関連企業がASML製装置を購入」 同社は適法取引を強調
オランダ番組 Nieuwsuur は、ASML の顧客に中国軍と関係する国有企業の子会社が含まれると報道（12月9日）。輸出入データで装置や部品の購入を指摘する一方、ASMLは個別確認を拒み、全取引は輸出管理法に基づき許可取得か規制外と説明。
TSMCとASML、需要堅調を示し半導体投資の波及広がる
10月16日のTSMCの7−9月期説明で生成AI需要の強さが鮮明になり、ASMLの決算が先端露光装置の受注増を示したことで、AIインフラ投資の長い波が半導体市場の設計から製造、装置まで広く連動している構図が浮かんだ。投資判断や設備計画にも影響を与える兆候だ。
