EUV光源

EUV露光の新技術をASMLが発表　光源強化で生産性を改善

ロイター報道によると、オランダのASMLは極端紫外線（EUV）露光で処理速度のボトルネックになりやすい光源の出力を高める新技術を開発し、EUV光源の安定性や稼働率改善を通じて先端半導体の量産ラインの生産性を今後大きく押し上げる見通しを示した。コスト低減や歩留まり改善も期待される。