EUV

大日本印刷、NIL向け10nmテンプレート開発　EUV代替を視野

大日本印刷（DNP）は2025年12月9日、ナノインプリントリソグラフィー（NIL）向けに回路線幅10nmのテンプレートを開発したと発表した。1.4nm世代相当のロジック半導体にも対応できるとし、極端紫外線（EUV）などの露光工程に比べ電力消費を約1/10に抑えるという。狙いは、先端半導体の「コストと電力」という二重の重さに、別の逃げ道を用意することだ。