High-NA

次世代EUV露光装置が量産へ　ASMLが量産開始の条件整うと表明

AI向け半導体の需要が膨らむなか、最先端の微細化を左右する露光装置が「研究」から「工場」へ移り始める。米カリフォルニア州サンノゼで26日（日本時間27日）、ASMLは次世代の高開口数（High-NA）EUV露光装置について、半導体メーカーが量産向けに使い始めるための条件がそろいつつあるとの見方を示した。