極端紫外線

EUV露光の新技術をASMLが発表　光源強化で生産性を改善

先端半導体の量産を支える極端紫外線（EUV）露光で、処理速度のボトルネックになりやすい「光」を強める動きが前に進んだ。ロイターによると、オランダのASMLは23日（日本時間24日）、EUV光源の出力を引き上げる新技術を開発し、今後の生産性を大きく押し上げる見通しを示した。