キオクシア

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キオクシアとサンディスク、第10世代3Dフラッシュ生産開始 高速化と低消費電力を訴求

キオクシアとサンディスク、第10世代3Dフラッシュ生産開始 高速化と低消費電力を訴求

キオクシアと米サンディスクは7月3日、岩手県北上市の北上工場第2製造棟(K2棟)で、第10世代の3次元フラッシュメモリ製品の生産を始めた。キオクシアは同日、第10世代「BiCS FLASH™」技術を使った1テラビットTLC製品のサンプル出荷も開始した。AIの普及でデータセンター向けストレージ需要が膨らむなか、大容量・高性能品の供給体制を強化する。

キオクシア、次世代ストレージUFS 5.0を公開 スマホAIの速度向上に寄与

キオクシア、次世代ストレージUFS 5.0を公開 スマホAIの速度向上に寄与

スマートフォンの処理能力がAI機能で底上げされる一方、足元では「内蔵ストレージの転送速度」が次のボトルネックになりつつある。キオクシアは2月24日、次世代の組み込み式フラッシュストレージ規格「UFS 5.0」に対応した評価用フラッシュメモリのサンプル提供を始めたと明らかにした。

キオクシア、3D DRAM実用化へ前進 8層積層技術を発表

キオクシア、3D DRAM実用化へ前進 8層積層技術を発表

キオクシアは2025年12月12日、高密度かつ低消費電力の3D DRAMを現実の製品に近づける基盤技術として、酸化物半導体InGaZnOを用いた「高積層可能なチャネルトランジスタ」を開発したと発表した。米サンフランシスコで開かれたIEDM 2025で、トランジスタを8層に積んだ構造の動作確認まで示したという。AIサーバーの電力コストが注目される中、メモリ側の“待機電力”をどこまで削れるかが次の焦点…

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