次世代EUV露光装置が量産へ ASMLが量産開始の条件整うと表明
AI向け半導体の需要が膨らむなか、最先端の微細化を左右する露光装置が「研究」から「工場」へ移り始める。米カリフォルニア州サンノゼで26日(日本時間27日)、ASMLは次世代の高開口数(High-NA)EUV露光装置について、半導体メーカーが量産向けに使い始めるための条件がそろいつつあるとの見方を示した。
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AI向け半導体の需要が膨らむなか、最先端の微細化を左右する露光装置が「研究」から「工場」へ移り始める。米カリフォルニア州サンノゼで26日(日本時間27日)、ASMLは次世代の高開口数(High-NA)EUV露光装置について、半導体メーカーが量産向けに使い始めるための条件がそろいつつあるとの見方を示した。
先端半導体の量産を支える極端紫外線(EUV)露光で、処理速度のボトルネックになりやすい「光」を強める動きが前に進んだ。ロイターによると、オランダのASMLは23日(日本時間24日)、EUV光源の出力を引き上げる新技術を開発し、今後の生産性を大きく押し上げる見通しを示した。
熊本県で、回路線幅3ナノメートルの最先端半導体を国内で初めて量産する計画が浮上した。半導体受託製造で世界最大手のTSMCが、2月4日に政府側へ計画を伝えていたことが分かった。投資は170億ドル規模に達する見通しで、供給網を国内に抱えたい政府は経済安全保障の柱として支援を検討する。
国産の最先端半導体量産を目標に掲げるラピダスの新工場「IIM-1」(北海道千歳市)で、生産現場の“司令塔”となる製造実行システム(MES)が動き出した。日本IBMが半導体工場向けMES「IBM IndustryView for Semiconductor Standard(SiView Standard)」を納入し、2025年4月から稼働している。製造装置の立ち上げと同時にデータ管理基盤を整える点…
赤沢亮正経済産業相は12日の閣議後会見で、次世代半導体の量産を目指すラピダスに対し、国内メガバンク3行が融資の意向表明書を提出したと明らかにした。意向書が発出されていることを把握していると述べ、政府としても金融面を含めて支援を続ける姿勢を示した。急ピッチで進む巨額投資を、官民がどう分担し日本の半導体産業の再建につなげるのかが焦点となる。