米国、ASMLのEUV装置流入疑いを伝達 中国向け規制の執行監視が焦点に
18日の海外報道によると、ラトニック米商務長官はASML幹部に対し、EUV露光装置が米国主導の輸出規制に反して中国へ渡った可能性への懸念を伝えた。ASMLは中国へのEUV装置や専用部品の出荷を否定しており、焦点は事実認定と流通経路の確認に移っている。
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次世代EUV露光装置が量産へ ASMLが量産開始の条件整うと表明
AI向け半導体の需要が膨らむなか、最先端の微細化を左右する露光装置が「研究」から「工場」へ移り始める。米カリフォルニア州サンノゼで26日（日本時間27日）、ASMLは次世代の高開口数（High-NA）EUV露光装置について、半導体メーカーが量産向けに使い始めるための条件がそろいつつあるとの見方を示した。
EUV露光の新技術をASMLが発表 光源強化で生産性を改善
先端半導体の量産を支える極端紫外線（EUV）露光で、処理速度のボトルネックになりやすい「光」を強める動きが前に進んだ。ロイターによると、オランダのASMLは23日（日本時間24日）、EUV光源の出力を引き上げる新技術を開発し、今後の生産性を大きく押し上げる見通しを示した。
最先端買えず「延命」へ 中国のAI半導体生産、ASML旧装置改修で対応
2025年12月19日、時事通信は英紙Financial Timesの報道として、中国の半導体メーカーが対中規制の強化を受け、ASMLの旧世代装置を独自に改良しながらAI半導体の国内生産を増やしていると伝えた。最先端の装置や部品が入りにくい環境で、工場は「買う」より「延命する」方向へ舵を切りつつある。
オランダ報道「中国軍関連企業がASML製装置を購入」 同社は適法取引を強調
オランダの公共放送の時事番組Nieuwsuurは12月9日、半導体製造装置大手ASMLの顧客の中に、中国軍と関係する企業が少なくとも1社含まれていると報じた。中国の輸出入データなどを基に、軍需電子機器を担う国有企業グループの子会社がASML製装置や部品を購入していたと指摘されている。ASMLは個別の顧客には言及せず、報道内容は確認できないとしつつ、全ての取引は輸出管理法に従い、必要な輸出許可を得て…
TSMCとASML、需要堅調を示し半導体投資の波及広がる
半導体市場の体温が一段と上がった。10月16日、台湾積体電路製造（TSMC）が7−9月期の説明を行い、生成AIを軸とする需要が年後半にかけても強い流れを保つとの手応えを示した。前日には露光装置のASMLが7−9月期決算を公表し、先端装置の受注が厚みを増す構図を確認させた。AIインフラ投資の長い波が、設計から製造、装置まで広く連動している姿が浮かぶ。
