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マイクロンメモリジャパンは2026年7月4日、広島工場（広島県東広島市）で新クリーンルームの起工式を開いた。総投資額は約1兆5000億円。次世代DRAMの量産基盤を整え、2028年後半に製造装置の搬入を始める。将来的に1000人以上の雇用拡大を見込む。
段階整備で進む大型クリーンルーム
新施設は段階的に建設される。第1期工事の面積は約30万平方フィート、約2万8000平方メートルで、サッカーコート約4面分に相当する広さだ。クリーンルームは、微細なほこりを徹底的に抑えた半導体製造の中核施設で、先端メモリの歩留まりや品質を左右する。
起工式には、マイクロンのサンジェイ・メロートラ社長兼CEO、赤澤亮正経済産業相、横田美香広島県知事、髙垣廣德東広島市長らが出席した。マイクロンは今回の増設について、同社が2013年にエルピーダメモリを買収して以降、広島拠点で最大規模のクリーンルーム増設だと説明している。
政府支援は研究開発を含め最大5360億円
経済産業省は2025年9月12日、マイクロンメモリジャパンとMicron Technology, Inc.の計画を「認定特定半導体生産施設整備等計画」として認定した。同計画の最大助成額は5000億円で、次世代DRAMの生産施設整備を対象とする。一方、マイクロンは研究開発への支援を含むプロジェクト全体の政府支援額を最大5360億円としている。
特定半導体生産施設整備等計画は、国内で高性能半導体を安定して生産するため、国が企業の大規模投資を支援する制度だ。認定計画では、広島工場で次世代DRAMを月4万枚規模で生産する能力を整え、AI、高速画像処理、自動運転などの市場への供給を目指す。
マイクロンは新クリーンルームへの製造装置搬入を2028年後半に始める予定だ。広島拠点は次世代AI向けDRAMやHBMの開発にも関わっており、今回の増設を通じて先進メモリの供給基盤と研究開発体制を強化する。
